Nanometrische oppervlakteruwheid meting via interferometrie
Een diepgaande blik op onze geavanceerde technieken voor het meten van oppervlakte-ruwheden op nanometerniveau voor de semiconductor-industrie.
Lees verderBlijf op de hoogte van de nieuwste ontwikkelingen in precisie-optiek, interferometrie en cleanroom-validatie.
Een diepgaande blik op onze geavanceerde technieken voor het meten van oppervlakte-ruwheden op nanometerniveau voor de semiconductor-industrie.
Lees verderHoe onze kalibratiemethoden ervoor zorgen dat optische componenten voldoen aan de strenge eisen van moderne cleanroom-omgevingen.
Lees verderEen vooruitblik op opkomende technologieën en hoe Orly SAX Optics de kalibratie van lasersystemen voor de lithografie-industrie transformeert.
Lees verderAntwoorden op specifieke vragen over onze processen voor de lithografie- en semiconductor-industrie.
Wij gebruiken geavanceerde fase-shifting interferometrie met laserbronnen van specifieke golflengtes. Dit stelt ons in staat hoogteverschillen tot onder de 0.1 nm (Angström-niveau) in kaart te brengen op optische componenten, een kritieke parameter voor EUV-lithografie systemen.
Na optische kalibratie ondergaan lenzen een strikt validatieprotocol. Dit omvat tests op golffrontfout, transmissie-efficiëntie en thermische stabiliteit in een geconditioneerde omgeving die de cleanroom nabootst, voordat het certificaat van conformiteit wordt afgegeven.
Ja, ons Spectral Analysis X-ray (SAX) systeem is speciaal ontworpen om niet-destructief de dikte en homogeniteit van dunne films en anti-reflectiecoatings te analyseren zonder het onderliggende substraat te beschadigen, essentieel voor hoogrendementspiegels.
Steppers vereisen uitzonderlijke homogeniteit over het hele beeldveld, terwijl scanners dynamische prestatie tijdens beweging nodig hebben. Onze kalibratie richt zich daarom respectievelijk op statische golffrontkwaliteit versus dynamische optische path difference (OPD) metingen onder gesimuleerde scancondities.
Al onze primaire meetstandaarden zijn direct traceerbaar naar nationale instituten (zoals het VSL). Elk kalibratiecertificaat bevat een gedetailleerde onzekerheidsanalyse volgens de ISO/IEC 17025 norm, ondersteund door gecontroleerde data-logging in ons Laboratorium Informatie Management Systeem (LIMS).
Meer specifieke vragen? Onze technische specialisten staan voor u klaar.
Neem contact opHulp bij uw precisie-optiek en lasersystemen. Ons team staat klaar voor vragen over kalibratie, interferometrie en cleanroom-validatie.
Directe ondersteuning voor urgente kwesties in de cleanroom of bij metingen.
+31 123 456 789Gedetailleerde technische vragen over specificaties, rapporten en validatie.
support@orlysax.comReal-time overleg via beveiligde chat voor snelle probleemoplossing.
Start een gesprekZoek in onze kennisbank naar protocollen voor interferometrie, nanometermetingen en cleanroom-procedures.
Antwoordtijden: Telefonisch direct • E-mail binnen 2 uur • Chat binnen 15 minuten (werkdagen 08:00–18:00 CET)
Voor service-afspraken of kalibratie-aanvragen: service@orlysax.com